Исследования поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов в Новосибирске
Ю. И. Бельченко, Г. Е. Деревянкин, Г. И. Димов, В. Г. Дудников
Новосибирск
Страницы: 106-115
Аннотация
Обсуждаются физические основы поверхностно-плазменного метода генерации интенсивных (>0,1 А) пучков отрицательных ионов изотопов водорода, созданного и исследованного в Институте ядерной физики СО АН СССР. Описываются конструкции и характеристики различных поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов и атомов, разработанных в Институте в последние годы для ускорителей заряженных частиц и установок УТС.
|