Структурирование поверхности кремния плазмой тлеющего разряда
А.В. Петрова1,2, А.Л. Богословцева1,2, С.В. Старинский1,2, А.И. Сафонов1
1Институт теплофизики им. С. С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
koltekreit@gmail.com
2Новосибирский национальный исследовательский государственный университет
alenka_bogos@mail.ru
Ключевые слова: тлеющий разряд, обработка кремния, окисление, смачиваемость, гидрофильность
Страницы: 131-136
Аннотация
Показана возможность изменения морфологии поверхности кремния при определенных параметрах тлеющего разряда. Установлено, что при обработке плазмой тлеющего разряда основным процессом, влияющим на морфологию поверхности, является окисление. В результате обработки в исследуемом диапазоне параметров наблюдаются различные стадии процесса окисления поверхности: образование равномерного оксидного слоя, формирование нано- и микроструктур оксида кремния. Показано, что указанные процессы приводят к модификации поверхности, которая приобретает устойчивые гидрофильные и супергидрофильные свойства.
DOI: 10.15372/PMTF202215179
EDN: NEOMQL
|
