Главная – Журналы – Прикладная механика и техническая физика / Journal of Applied Mechanics and Technical Physics 1978 номер ...

Проведено определение плотности тока термоавтоэлектронной миссии в плазму с учетом дискретности распределения заряда в прикатодном слое (I – F – Т- и I– Т ‐ F-эмиссии). Показано, что плотности токов I – F – Т- и I– Т ‐ F-эмиссий могут значительно превосходить плотность тока термоавтоэлектронной эмиссии в вакуум при одинаковом значении напряженности электрического поля на поверхности катода. Получено, что плотности ионов I – F – Т- и I– Т ‐ F увеличиваются с ростом прикатодного падения потенциала при прочих равных условиях.