ИЗГОТОВЛЕНИЕ ПЛАНАРНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ТЕРАГЕРЦОВОЙ ОПТИКИ ПОСРЕДСТВОМ ГЛУБОКОЙ ТРАФАРЕТНОЙ РЕНТГЕНОЛИТОГРАФИИ
А.Н. Генцелев1, С.Г. Баев2
1Институт ядерной физики им. Г. И. Будкера СО РАН, г. Новосибирск, Россия
ang1209@mail.ru
2Институт автоматики и электрометрии СО РАН, г. Новосибирск, Россия
baev@iae.nsk.su
Ключевые слова: рентгеношаблон, LIGA-шаблон, лазерная микрообработка, лазерная резка, LIGA-технология, контраст рентгеношаблона, резистивная маска, аспектное отношение
Страницы: 104-112
Аннотация
Представлены особенности проведения трафаретной (с использованием шаблонов) рентгенолитографии синхротронным излучением (СИ) по тонким (до 50 мкм) и толстым (до 1 мм) слоям рентгенорезистов и примеры её реализации на рентгенолитографических станциях электронного накопителя ВЭПП-3. Приведены расчётные графики спектральной зависимости разрешающей способности рентгенолитографии от величины зазора между рабочими поверхностями рентгеношаблона и обрабатываемой подложки, графики зависимостей интенсивности пучка СИ и поглощаемой плотности мощности от глубины проникновения излучения в резист и аналогичные графики для контраста рентгеношаблонов. Дано описание самонесущих перфорированных (со сквозными отверстиями) металлических рентгеношаблонов, проиллюстрирован СЭМ-фотографиями выход на новый качественный уровень их изготовления из металлической фольги способом лазерной резки излучением с фемтосекундной длительностью импульса, вследствие чего принципиально меняется характер взаимодействия излучения с металлом. Полученные таким образом рентгеношаблоны характеризуются и высоким уровнем контраста, и малыми размерами перемычек, формируемых резкой сетчатых структур. Это позволит с помощью LIGA-технологии получать образцы планарных элементов терагерцовой оптики в виде металлических микроструктур, варьируя размеры ячеек, ширину перемычек структур, их толщину в существенно более широком диапазоне, чем это делалось ранее.
DOI: 10.15372/AUT20220212 |
