АНАЛИЗ ПРОБИВНОГО ДЕЙСТВИЯ КУМУЛЯТИВНЫХ ЗАРЯДОВ С ПОЛУСФЕРИЧЕСКОЙ И ПОЛУЭЛЛИПСОИДНОЙ ОБЛИЦОВКАМИ ДЕГРЕССИВНОЙ ТОЛЩИНЫ
С.В. Фёдоров1, С.В. Ладов1, О.В. Свирский2, М.А. Власова2
1Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана, Москва, Россия
sergfed-64@mail.ru
2РФЯЦ, ВНИИ экспериментальной физики, Саров, Россия
postmaster@ifv.vniief.ru
Ключевые слова: взрыв, кумулятивный заряд, кумулятивная струя, полусферическая облицовка, полуэллипсоидная облицовка, дегрессивная толщина, пробивное действие, массово-скоростное распределение, численное моделирование
Страницы: 121-137
Аннотация
Проведен расчетный сравнительный анализ пробивного действия кумулятивных зарядов с медными облицовками в форме конуса прогрессивной толщины с углом раствора 60º, равнотолщинной полусферы, полусферы и полуэллипсоида дегрессивной (уменьшающейся от вершины к основанию) толщины. Полярная полуось полуэллипсоидной облицовки несколько превышала экваториальную. Параметры формируемых кумулятивных струй определялись на основании численного моделирования в рамках двумерной осесимметричной задачи механики сплошных сред, а глубина пробития ими стальной преграды - на основании инженерной методики, учитывающей влияние точности изготовления зарядов. Параметры облицовок дегрессивной толщины были подобраны так, чтобы скорость головной части формировавшихся из них струй была близка к скорости, обеспечиваемой конической облицовкой. При этом пробивное действие кумулятивного заряда с полусферической облицовкой дегрессивной толщины оказалось существенно ниже, чем у заряда с конической облицовкой, который, в свою очередь, незначительно уступал по максимальной глубине пробития заряду с полуэллипсоидной облицовкой. Обсуждаются физические причины полученных результатов.
DOI: 10.15372/FGV20210511 |
