ВЛИЯНИЕ УСЛОВИЙ СИНТЕЗА НА СТРУКТУРУ И СВОЙСТВА НОВЫХ МАТЕРИАЛОВ SiCx
Ny
Mz
ДЛЯ СПИНТРОНИКИ
Н.И. Файнер1, Р.В. Пушкарёв1, В.А. Шестаков1, А.К. Гутаковский2
1Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия
nadezhda@niic.nsc.ru
2Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия
Ключевые слова: термодинамическое моделирование, 1,1,1,3,3,3-гексаметилВдисилазан, ферроцен, николоцен, кобальтоцен, химическое осаждение пленок из газовой фазы при пониженном давлении, нанокомпозитные пленки SiCNFe
Страницы: 1543-1552
Аннотация
С целью создания новых тонкопленочных материалов для спинтроники на основе термодинамического моделирования проведено осаждение конденсированных фаз сложного состава в системах Si-С-N-H-M, где M = Fe, Co, Ni, в широкой области температур 500-1300 K. В результате моделирования получены CVD диаграммы систем Fe-Si-C-N-H(He), Co-Si-C-N-H(He) и Ni-Si-C-N-H(He), позволяющие оптимизировать процесс синтеза таких пленочных материалов, как SiC x N y Fe z , SiC x N y Co z , и SiC x N y Ni z . Экспериментально проводилось осаждение пленок SiC x N y Fe z из газовой смеси, содержащей ферроцен (C5H5)2Fe и кремнийорганическое соединение 1,1,1,3,3,3-гексаметилдисилазан (HNSi2(CH3)6 (ГМДС)) при пониженном давлении в интервале температур 1073-1273 K. Установлена зависимость физико-химических и функциональных свойств пленок SiC x N y Fe z от условий синтеза с помощью комплекса современных методов исследования, таких как: ИК спектроскопия, КРС, ЭДС, РФЭС, РЭМ, ВРЭМ и рентгенофазовый анализ с использованием синхротронного излучения (РФА-СИ). Методами Фарадея и электронного парамагнитного резонанса (ЭПР) исследованы магнитные свойства пленок. Показано, что при температуре синтеза 1123 K пленки являются парамагнитными, а при более высокой температуре осаждения 1273 K - ферромагнитными.
|
