Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 44.201.96.43
    [SESS_TIME] => 1657061492
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => f72f6d9e657b61e5d30f064811f16a1d
    [UNIQUE_KEY] => 47881710dd539e1e694e1b0be0f7c979
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Автометрия

2017 год, номер 1

РЕАЛИЗАЦИЯ ФИЛЬТРОВ ВЫСОКИХ ЧАСТОТ СУБТЕРАГЕРЦОВОГО ДИАПАЗОНА С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЫСОКОАСПЕКТНЫХ ПОЛИМЕРНЫХ СТРУКТУР

С.А. Кузнецов1,2,3, А.Н. Генцелев1, С.Г. Баев4
1Институт ядерной физики им. Г. И. Будкера СО РАН, 630090, г. Новосибирск, просп. Академика Лаврентьева, 11
serge_smith@ngs.ru
2Новосибирский государственный университет, 630090, г. Новосибирск, ул. Пирогова, 2
3«Конструкторско-технологический институт прикладной микроэлектроники», 630090, г. Новосибирск, просп. Академика Лаврентьева, 2/1
4Институт автоматики и электрометрии СО РАН, 630090, г. Новосибирск, просп. Академика Коптюга, 1
baev@iae.nsk.su
Ключевые слова: рентгеновская литография, высокоаспектные микроструктуры, фильтры высоких частот, X-ray lithography, high-aspect microstructures, high-frequency filters
Страницы: 107-116
Подраздел: НАНОТЕХНОЛОГИИ В ОПТИКЕ И ЭЛЕКТРОНИКЕ

Аннотация

Представлен технологический подход к реализации эффективных квазиоптических фильтров типа high-pass субтерагерцового диапазона частот электромагнитного спектра с использованием высокоаспектных псевдометаллических структур. Подход основан на микроструктурировании сплошного полимерного слоя из полиметилметакрилата посредством синхротронной рентгеновской литографии с последующей металлизацией всей поверхности структуры. Приведены пример изготовленного образца и операционные характеристики фильтра high-pass c частотой отсечки 0,275 ТГц, который имеет толщину 1 мм и сформирован гексагонально упакованными сквозными отверстиями шестиугольной формы, разделёнными перемычками шириной 70 мкм. Представлены электродинамический анализ и принципы дизайна структур high-pass.

DOI: 10.15372/AUT20170113