Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 3.221.159.255
    [SESS_TIME] => 1611431478
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => 5e0e16da2b94ba64e9c2f84041ca9586
    [SALE_USER_ID] => 0
    [UNIQUE_KEY] => 5ebe0c3944bb985d563e5544e815a8bd
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Автометрия

2004 год, номер 6

ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ БЫСТРОПРОТЕКАЮЩИХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ПРОЦЕССОВ

В. А. Швец, С. И. Чикичев, В. Ю. Прокопьев, С. В. Рыхлицкий, Е. В. Спесивцев
(Новосибирск)
Страницы: 61-69
Подраздел: ОПТИЧЕСКИЕ ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ, ЭЛЕМЕНТЫ И СИСТЕМЫ

Аннотация

Представлен эллипсометрический комплекс для исследования динамики оптических свойств быстропротекающих высокотемпературных процессов. Рассмотрена проблема контроля температуры при "быстром" и "медленном" режимах нагрева. Приведены результаты исследования с помощью комплекса оптических свойств сверхтонких пленок аморфного Ge в обкладке диэлектрических слоев. Проведен анализ динамики изменения оптических свойств Ge при нагреве и показана возможность наблюдения процессов кристаллизации и плавления исследуемых пленок. Установлено, что температура плавления таких пленок понижается более чем на 200 °С по сравнению с температурой объемного материала.