Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Поиск по журналу

Теплофизика и аэромеханика

2026 год, номер 3

Метод газоструйного осаждения алмазных покрытий с активацией газов-прекурсоров сверхвысокочастотным разрядом: особенности, возможности и перспективы

М.Ю. Плотников, А.А. Емельянов, А.И. Сафонов, Н.И. Тимошенко, И.Б. Юдин, А.К. Ребров
Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
plotnikov@itp.nsc.ru
Ключевые слова: алмазное покрытие, СВЧ-плазма, газоструйное осаждение, газофазное осаждение
Страницы: 521-540

Аннотация

Рассматривается газоструйный метод осаждения алмазных покрытий с активацией газов сверхвысокочастотным (СВЧ) разрядом. Особенностью этого метода является использование высокоскоростной струи для транспортировки газов, активированных в СВЧ-плазме в разрядной камере, к подложке, расположенной в камере осаждения. Такой подход открывает новые возможности в области газофазного синтеза алмаза, но развитие этого метода требует проведения систематических исследований. Показана эффективность этого метода. Успех исследования обусловлен систематическим численно-экспериментальным изучением отдельных процессов, участвующих в газоструйном синтезе алмазных покрытий.

DOI: 10.63430/TIA202603009
Добавить в корзину
Товар добавлен в корзину



Наш сайт использует куки. Продолжая им пользоваться, вы соглашаетесь на обработку персональных данных в соответствии с политикой конфиденциальности. Подробнее
Отказаться Принять