СТРУКТУРНЫЕ ДЕФЕКТЫ В ПЛЕНКАХ SiCxNyHz, ПОЛУЧЕННЫХ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМ ОСАЖДЕНИЕМ ИЗ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАЗАНА
В.Р. Шаяпов, В.А. Надолинный, С.И. Кожемяченко, Ю.М. Румянцев, Н.И. Файнер
Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, 630090 Россия, Новосибирск, пр. Акад. Лаврентьева, 3
shayapov@niic.nsc.ru
Ключевые слова: PECVD, пленки, электронный парамагнитный резонанс, гексаметилдисилазан, оборванные связи, кластеры углерода, PECVD, films, electron paramagnetic resonance, hexamethyldisilazane, dangling bonds, carbon clusters
Страницы: 1123-1128
Аннотация
Методом спектроскопии электронного парамагнитного резонанса исследованы парамагнитные центры в пленках SiC x N y H z , полученных плазмохимическим осаждением из паров гексаметилдисилазана. Обнаружено, что в пленках присутствуют оборванные связи на атоме углерода, причем их концентрация значительно увеличивается с ростом температуры осаждения. Методом спектроскопии комбинационного рассеяния света определена область температур осаждения, внутри которой пленки содержат кластеры углерода. Установлено сходство в свойствах пленок, синтезированных при высоких температурах осаждения, и пленок, изначально осажденных при низких температурах и затем подвергнутых отжигу. Результаты исследований интерпретированы с использованием известных данных о составе и структуре пленок, а также имеющихся в литературе представлений.
DOI: 10.15372/JSC20150607 |
