Механохимический аспект технологии химико-механического полирования материалов
А.С. АРТЕМОВ
Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, ул. Вавилова, 38, Москва 119991 (Россия)
artpoliofan@mail.ru
Ключевые слова: химико-механическое полирование, аморфные частицы SiO2, полировальники, монокристаллы, механохимическая активация
Страницы: 615-622
Аннотация
На основе экспериментального изучения кинетики и механизма процессов, протекающих при химико-механическом полировании полупроводниковых, диэлектрических и металлических кристаллов, предложена интерпретация механохимического аспекта с точки зрения проявления эффекта П. А. Ребиндера. Показана возможность трибохимической активации химических реакций потоком жидких золей кремнезема при совместном воздействии на поверхность химических и механических факторов. Установлено, что твердые частицы способствуют активации и локализации химических реакций на поверхности кристаллов в атомном масштабе и удалению продуктов химических реакций в наномасштабе. В результате образуется зеркальная гладкая поверхность материалов с субнаношероховатым рельефом, не содержащая микро- и наноцарапин, ямок, участков травления и других микродефектов.
|
