ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ БЫСТРОПРОТЕКАЮЩИХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ПРОЦЕССОВ
В. А. Швец, С. И. Чикичев, В. Ю. Прокопьев, С. В. Рыхлицкий, Е. В. Спесивцев
(Новосибирск)
Страницы: 61-69 Подраздел: ОПТИЧЕСКИЕ ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ, ЭЛЕМЕНТЫ И СИСТЕМЫ
Аннотация
Представлен эллипсометрический комплекс для исследования динамики оптических свойств быстропротекающих высокотемпературных процессов. Рассмотрена проблема контроля температуры при "быстром" и "медленном" режимах нагрева. Приведены результаты исследования с помощью комплекса оптических свойств сверхтонких пленок аморфного Ge в обкладке диэлектрических слоев. Проведен анализ динамики изменения оптических свойств Ge при нагреве и показана возможность наблюдения процессов кристаллизации и плавления исследуемых пленок. Установлено, что температура плавления таких пленок понижается более чем на 200 °С по сравнению с температурой объемного материала.
Наш сайт использует куки. Продолжая им пользоваться, вы соглашаетесь на обработку персональных данных в соответствии с политикой конфиденциальности. Подробнее