ЧУВСТВИТЕЛЬНОСТЬ ОПТИМИЗИРОВАННОГО МЕТОДА КОНТУРНОЙ МАСКИ К ОШИБКАМ ПРОЦЕССА ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДОЭ С КУСОЧНО-НЕПРЕРЫВНЫМ РЕЛЬЕФОМ
В.П. Корольков
Институт автоматики и электрометрии СО РАН, 630090, г. Новосибирск, просп. Академика Коптюга, 1
victork@iae.nsk.su
Ключевые слова: метод оптимизированной контурной маски, дифракционные оптические элементы, кусочно-непрерывный рельеф, дифракционная эффективность
Страницы: 9-19
Подраздел: ОПТИЧЕСКИЕ ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
Аннотация
Рассмотрено влияние ошибок технологического процесса, использующего оптимизированный метод контурной маски при изготовлении ДОЭ с кусочно-непрерывным рельефом, на уменьшение обратных скатов зон и повышение дифракционной эффективности элементов. Допуски на отклонения технологических параметров, необходимые для реализации метода, находятся в рамках параметров стандартных технологических процессов и оборудования микроэлектронного производства. Предложенный метод может быть полезен для лазерных записывающих систем и проекционной литографии, формирующих рельеф в фоторезисте с обратным скатом шириной более 1 мкм, так как позволяет существенно улучшить качество изготавливаемых дифракционных структур.
|
